Dynavac PVD thin film deposition

L’esclusivo design di indicizzazione della maschera di Dynavac consente il rivestimento su porzioni selezionate del porta-substrato in un singolo ciclo batch senza rompere il vuoto.

Una maschera circolare segmentata divisa in sezioni espone parti selezionate del porta-substrato, rivestendo singole sezioni del porta-substrato con diversi stack di rivestimento in un’unica evacuazione. Ad esempio, con una maschera composta da quadranti, è possibile eseguire quattro processi separati in un unico ciclo di pompaggio. Hai bisogno di rivestire più parti in un singolo quadrante? Rimuovi semplicemente una seconda maschera a quadrante e raddoppia i substrati rivestiti.

Una maschera circolare fissata al mozzo rotante principale ruota insieme al sistema di rotazione del substrato. Il gruppo di “bloccaggio a cuneo” che blocca la maschera in posizione viene disinnestato e ruotato in una nuova posizione, esponendo una sezione diversa del porta-substrato. L’indicizzazione della maschera avviene in situ mentre il sistema è sotto vuoto, consentendo la deposizione di vari stack di film su diversi substrati.

Questa indicizzazione della maschera funziona con la rotazione del substrato singola o planetaria.

Questa configurazione è ideale per:

  • Cicli di processo relativamente brevi con lunghi tempi di evacuazione del sistema
  • Cicli di rivestimento R&S con diversi stack di film sovrapposti
  • Rivestimento di diversi substrati con diversi stack in un’unica evacuazione.

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Rivestimento a film sottile Dynavac

Porta-substrato a maschera indicizzata di Dynavac

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