Los sistemas de pulverización catódica confocal de Dynavac permiten la deposición de películas delgadas multicapa en una sola ejecución. Su diseño compacto es ideal para producción a pequeña escala o para su uso en ensayos de investigación. Las capas se pueden depositar secuencialmente utilizando un solo material o mediante co-pulverización de múltiples materiales. La co-pulverización ofrece varios beneficios y constituye un método eficaz para producir aleaciones complejas de materiales metálicos.
Nuestra arquitectura de sistema flexible admite numerosos tipos de procesos y demandas de producción. Las características y opciones disponibles incluyen:
- Disponible con 2-4 cátodos circulares dispuestos en geometría confocal.
- Opciones de objetivo magnetrón de 2, 3, 4 o 6 pulgadas de diámetro
- Los cátodos de montaje flexible proporcionan alta flexibilidad y precisión en el posicionamiento del objetivo para lograr la uniformidad deseada del sustrato.
- Fuentes de alimentación DC o DC pulsada
- Configuraciones de pulverización ascendente o descendente
- Control de gas en bucle cerrado para un control preciso del proceso
- Rotación del sustrato hasta 30 rpm para mejorar la uniformidad
- Variedad de opciones de bombeo mecánico y de alto vacío
- Automatización basada en PLC con interfaz HMI
Opciones disponibles
- Deposición asistida por iones
- Cámara de carga para minimizar la contaminación de la cámara de proceso y mejorar el tiempo de ciclo
- Calentamiento y enfriamiento del sustrato
- Control de monitorización de deposición
- Grabado por plasma RF para pretratamiento del sustrato
Contáctenos con sus requisitos para iniciar el proceso.
